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第二百八十六章 浸润式光刻机技术路线的独苗（第1页）

在当下的华国，万人规模的企业还是有的，能达到这个规模的企业一般集中在铁路、烟草、电信等领域，这些领域有个共同的特点，那就是这些领域属于民营资本和外资的禁地。

除了这些领域之外，万人规模的科技型企业非常少。科技型企业的话TCL算是人数最多的民营科技巨头了，在2000年的时候就有超过五万人。

在芯片行业，新芯那是独一份，短短三年时间成长成为华国在芯片领域的独一无二的巨头，从营收、利润、就业岗位等都遥遥领先。

像周新之前公开指责交大伙同陈进造假，在申海沟通前提下还召开新闻发布会把丑闻公之于众，一系列丝毫不给申海乃至整个华国高校面子的做法，当众打脸的行为不但没有受到任何处罚或者遭受舆论上的压力，而且还获得了申海比之前更好的扶持。

根本原因还是在于新芯的实力足够强，发展速度让燕京的大人物们和申海地方看到了希望，发展自主可控芯片产业的希望。

对周新而言没有做出过线行为前，即便他的行为或者言论过线了，也不会怎么样。

当下提供了上万就业岗位的新芯，岗位质量远超未来的富士康，新芯同样不会被怎么样。

周新在和胡正明聊完新芯以及小米的总体情况后，说：“林叔已经和我说过了，新芯光刻机未来要走浸润法的技术路线，我赞同他的想法。”

胡正明点头：“他之前也和我说过，老实说这应该算是他个人的一种夙愿，也只有在新芯他才有机会把夙愿实现。”

周新有点不太理解，问：“为什么说是夙愿？”

胡正明解释道：“浸润法的这一技术路线是本坚最早提出来的，他在上世纪八十年代的时候就认为浸润法可能是光刻机继续发展的技术方向之一。

只是一直没有找到合适的介质，加上之前干式光刻机发展迅速，因此业界没有动力也没有意愿去探索一条全新的技术路线。所以当年还在IBM工作的本坚并没有获得公司的支持。

导致浸润式光刻机技术的专利被霓虹人Takanashi已经申请了，本坚对这件事一直耿耿于怀。

现在不一样，光刻机到了一个瓶颈，90nm就是干式光刻机的瓶颈，但是对于尼康和佳能这样的巨头来说，他们是不愿意随便更换技术路线的。

换技术路线意味着他们在干式光刻机领域积累的专利都会被埋葬，他们和我们和ASML都重新回到了同一起跑线，他们不会愿意这么干的。

反而像我们这样的后来者，更加愿意在技术上冒险，倒也不是冒险，而是只有采用激进的技术路线才有可能实现反超，硅谷太多类似的例子了。”

胡正明说完后，周新有点理解为什么当年林本坚会在台积电和新芯之间选择新芯，因为新芯打算做光刻机，而台积电没有类似的计划。

只有做光刻机，才有机会切换到浸润式光刻机这一技术路线上去。

按照胡正明的说法，林本坚想走这一技术路线有接近二十年的时间，这是怎样的一种执念。

周新说：“我同样看好这一技术路线，我和林叔在这方面达成了一致，甚至我们连浸润式光刻机要采用哪种介质都有默契。”

胡正明说：“你支持他那就好，老实说不管是本坚还是老关，大家会来新芯，多少都是之前的职业生涯有点不得志。

老关是因为被合伙人给赶走的，你应该比较清楚，本坚和你沟通的没那么多，他又比较沉默寡言，除了聊技术能多说两句外，平时很少聊自己的事情。

我和本坚认识有大概十六年时间了，我还记得当时应该是八十年代年的事情，那时候开一个研讨会，本坚作为IBM的技术专家来做介绍，他的主题是未来芯片制造领域继续发展下去会遇到什么瓶颈。

当时芯片制造的制程还是一千纳米，哦没错，是87年的时候，然后本坚当时就提出了如何突破这些瓶颈，里面就包括浸润法。当时的办法有很多，没有人注意到他的方法。

有点讲远了，刚刚说本坚在IBM不得志，是因为他在IBM的时候做的是深紫外光，而那时候IBM的光学部门主要研究方向是X光，这也导致他其实并没有那么得志。

不然他也不会在五十岁的时候申请IBM的内部退休创业。

因此本坚一直认为芯片制程想要突破，光源是关键，现在的光源是深紫外光，而要想从深紫外光到极紫外光，浸润法是关键。”

不得不说林本坚的技术嗅觉极其敏锐，极紫外光是芯片制程进入到10nm下的关键技术，而如果继续采取干式光刻机，极紫外光导致的问题无法解决。

当新芯从周新到胡正明再到林本坚，这一条线的人都达成了共识要走浸润式光刻机路线时，新芯在光刻机领域的主要对手们都在朝157nm干式光刻机领域发起冲锋。

当前90nm制程靠的是193nm波长的干式光刻机，这一波长的光源极限就是65nm，几乎不可能再往下了。

业内在实验室中已经对此进行过了验证，要想继续往下，那就得换光源，产业界和学术界想了各种各样的办法，这些办法都指向了一个方向换光源，换波长更短的光源。

可以很明确的说如果没有林本坚，ASML一定会继续往干式光刻机方向发展，因为他们在2000年的时候收购了SVG，一家专注于157nm波长光源的公司，是在这一技术路线上最接近商业化量产的公司。

ASML在157nm干式光刻机上投入了大量费用，如果不是林本坚先说服了台积电的总裁蒋尚义，然后由林本坚出席在布鲁塞尔举办的157nm波长的光刻机技术研讨会上说服了大多数专家。

后来依靠台积电，林本坚完成了浸润式光刻机的可行性研究，ASML压根不会走这一技术路线。

历史的拐点，导致当前全球新芯科技是唯一在浸润式光刻机上投入资源的厂商。

周新根据自己了解到的行业情况，颇有种风云变化的感觉，他带来的影响让ASML进入到了一个前景有限的技术路线里去了。

靠着之前的技术积累，ASML、尼康、佳能靠着干式光刻机和新的光源能在45nm都赶上，但是到了45nm之后，干式光刻机的技术路线一定会出问题，问题就是无论如何优化工艺，良品率都迟迟上不去。

当然不排除，他们跟着新芯科技去走浸润式光刻机的路线，但是这也意味着新芯积累的专利，构建的专利墙可以向他们收高昂的专利费用。

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